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トップページ > 製品案内 > 光吸収膜、光放射膜、光低反射膜 > Litho-Black(微細加工対応の遮光膜)

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Litho Blackイメージ

光吸収膜、光放射膜、光低反射膜

Litho-Black™ (微細加工対応の遮光膜)

Litho-Black™は、フォトリソグラフィー技術、エッチング技術といった微細加工技術の利用に適した光吸収膜、光遮光膜です。膜厚2um程度で、紫外、可視、赤外光領域で97%以上の吸収特性を示し、フォトリソグラフィー、エッチング処理との高い互換性を兼ね備えています。

Litho-BlackTMは非鉄金属、非鉄金属酸化物から構成されていて、成膜過程で有機物質、化学薬品は使用していません。また、無機質物質による成膜のため、アウトガスの発生もありません。Litho-BlackTMは光吸収膜・遮光膜シリーズ最新タイプとなります。

独自の真空真空蒸着技術を使用して成膜された光吸収膜・遮光膜は、真空、極低温環境にも優れた適応性があり、宇宙での使用を含む広範なアプリケーションで適用が可能です。

Litho-Black™ の特徴

低反射率

導電性制御(一定の範囲で)

フォトリソグラフィ-技術への互換性

エッチング技術技術への互換性

3umスケール

あらゆる基板への成膜が可能(シリコン、ガラスなど)

低アウトガス

非粒子化

180℃以下の低温処理が可能

データシートのダウンロード

Litho-Black™ アプリケーション

1.焦電型赤外線センサ用の赤外光吸収膜
赤外線を高効率で吸収し、より多くの熱が焦電部へ伝達されることで、高精度な赤外線感知が可能。

2.測光センサ用の光遮光膜
耐候性に優れた工業用途向け光遮光膜で、高精度なパターニングレベルと膜厚公差をもつ。

3. 1024 Element Uncooled Linear Array Wafer
Electrically insulating, low reflective coating covering the entire surface; leaving accurately sized windows over the elements.
generates uniform element width for uniform element response by covering spare edges.
non-sensitive areas covered with low reflectivity coating for stray light suppression.

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