＜離散的なサンプル ポイントとしてのフィールド＞

フィールド データ ウィンドウで指定するフィールドは、2 次元の物体面上の離散的なサンプリング ポイントを示しています。
デフォルトのメリットファンクションは、全フィールドにわたる基準 (スポット サイズ、波面、MTF など) の二乗平均平方根 (RMS) を最小化します。
通常、定義されるフィールド ポイントは少なくとも軸上フィールド ポイントと最大フィールド ポイントを含むことになります。
軸上フィールドと最大フィールドの間の性能は変化することがあるため、多くの場合、中間フィールド ポイントを指定する必要があります。
1D の物体ラインではなく 2D の物体面をサンプリングするため、物体面において同一面積 (同一距離ではない) がサンプリングされるような中間サンプル ポイントを指定するのが賢明です。
3 つのフィールドが指定された場合、中間フィールド ポイントは、同一面積をサンプルする際の軸上フィールドと最大フィールドの中間点にはなりません (下図を参照ください)。
下のサンプル システムは回転対称であり、よって 1 つのラジアル アーム上のみでフィールドのサンプリングを行えばいいことに注意してください。



幾何学上の簡単な計算によって、n 個の同一面積のリングに分割した場合のフィールドの値は以下のようになります。



ここで n はフィールド ポイントの数で、HFOV (半視野) は半径方向の最大フィールドです。

n = 3 である場合、中間フィールド ポイントは以下に示すように 1/√2×最大フィールドとなります。



ほとんどのシステムにおいては中間フィールド ポイントの数を多くする必要はありません。
フィールドの関数の変化と比較すると、中間フィールド ポイントを増やしても性能にそれほど大きな変化はないためです。
中間フィールドを 1 つか 2 つ定義して最適化し、その後連続フィールドの関数として (RMS vs. フィールドのような解析を使用して) 性能を評価し、追加フィールドが必要かどうかを見極めるのが賢明なアプローチといえます。